光学冷热台CH600S温度范围-190℃~600℃，温度稳定性±0.1℃，能实现定点、斜率、程序段多模式精准控温。

光学冷热台H600S/H800S温度范围RT~800℃，温度稳定性±0.1℃；载样台反射/透射可选；旋拧结构上盖，取放样品便捷。

光学冷热台CH600S-T具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

光学热台H200-Mini具备4K至1700℃的超宽范围精确控温能力。依据目标温度及应用特点，集成包括：液氦制冷、液氮制冷、热电制冷、电阻加热、红外加热、激光加热等在内的多种前沿温控解决方案，为复杂变温实验提供强大支持。

光学冷热台CH600S-XY温度范围-190℃~600℃,温度稳定性±0.1℃，能实现定点、斜率、程序段多模式精准控温。

光学冷热台CH600-C温度范围-120℃~600℃，温度稳定性±0.1℃，能实现定点、斜率、程序段多模式精准控温。